锗有两种氧化物:二氧化锗(GeO2)和一氧化锗(GeO)。
锗与氧、卤素、酸、碱等物质反应都能生成化合物。
锗共有四种已知的四卤化物:四碘化锗(GeI4)为固体,四氟化锗(GeF4)为气体,其余两种为挥发性液体。
锗还能与氧族元素生成二元化合物,例如二硫化物、二硒化物(GeSe2)、一硫化物(GeS)、一硒化物(GeSe)及碲化物(GeTe)。
甲锗烷(GeH4)是一种结构与甲烷相近的化合物。
有机锗化合物(organogermanium compound):四氯化锗与二乙基锌反应生成四乙基锗(Ge(C2H5)4)R4Ge型(其中R为烃基)的有机锗烷,如四甲基锗(Ge(CH3)4)及四乙基锗,是由锗前驱物四氯化锗及甲基亲核剂反应而成。
有机锗氢化物,如异丁基锗烷((CH3)2CHCH2GeH3)的危险性比较低,因此半导体工业会用液体的氢化物来取代气体的甲锗烷。
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