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溅射镀膜 2015-08-25

   定义:利用高能离子冲击材料靶,从其表面溅射出粒子并沉积在工件表面上形成薄膜的方法。


   溅射镀膜的基本方式及原理:溅射镀膜最基本的方法是两电极溅射法。镀膜是在真空溅射槽内进行的,真空度要达10ⅹ10-3以上,充入一定量惰性气体,以材料靶作为阴极,工件作为阳极,在两电极间加上高压使惰性气体电离, Ar+离子被阴极的负高压(一500v)加速,以高速轰击材料靶,从靶面飞溅出来的粒子以足够的速度飞向阳极工件并沉积在其表面上,形成镀层。

 

   但是这种方法,工件的温升过高,有时高达500℃,这样对于塑料工件或不允许有热变形的精密零件均不能进行镀膜,另外,这种方法的成膜速度慢,膜中也易混入不纯的气体,影响成膜的质量,因此,虽然两电极溅射镀膜的历史悠久,但应用范围受到了限制。


   为了克服上述的缺点,先后研制出了各种方式的溅射镀膜装置。1974年研制出可以在低温下高速溅射的磁控管溅镀装置,为溅射镀膜的进一步发展创造了条件。




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